武汉市集成电路产业奖励补贴政策，2022年申报条件流程

集成电路产业企业看一看了，关于集成电路湖北武汉有哪些奖励政策扶持企业发展呢？流片补贴、设计费用补贴、平台建设运营奖励、研发芯片及相关产品补贴，以及贷款贴息等，有哪些奖励补贴措施都在下文详细介绍，申报需要满足的条件也有讲述，看完还是有疑惑或者需要申报协助欢迎随时联系，专业的项目老师针对性规划分析。
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一、支持对象 
在武汉市登记注册，具有独立法人资格的集成电路企业和集成电路设计企业。 集成电路企业需同时符合下列条件：
1、主营业务为集成电路或半导体领域设计、制造、封测、设 备、材料的企业。 
2、企业财务会计制度健全，税务征管关系在武汉市内，并依 法纳税。
3、不违反国家、省、市联合惩戒政策和制度规定，近三年无 不良信用记录，符合国家、省、市能耗、环保、安全生产、产品 质量等要求。 
4、有完整的全职研发团队，具备自主研发能力。 集成电路设计企业需同时符合下列条件： 
1.符合上述 4 条规定，并以集成电路设计为主营业务。
2.拥有自主知识产权（如集成电路布图设计登记证书、发明 专利授权等），并以此为基础开展经营活动。 
3.具有与集成电路设计相适应的生产经营场所、软硬件设施 等开发环境（如电子设计自动化（EDA）工具、开发工具等）、 相关的技术支撑环境。
 二、支持周期 
支持周期即为后文所称“年度”，起止时间为：2021 年 7 月 1 日—2022 年 6 月 30 日（本政策属于后奖补政策，奖补依据为企业在支持周期内实际发生的费用）。 
三、支持政策 
企业可同时申报以下 5 项奖补政策。其中流片补贴、设计费用补贴仅限集成电路设计企业申报。 
（一）流片补贴
1、对完成全掩膜（Full Mask）首轮工程产品流片的集成电路 设计企业，给予首轮流片费用30%或首轮掩膜版制作费用 50%的 补贴，单个企业年度补贴总额最高 500 万元。
2、对使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的集成电路设计 企业，给予 MPW 首轮流片费用 50%的补贴，单个企业年度补贴 总额最高 100 万元。 
（二）设计费用补贴 
1.给予购买 IP、EDA 实际支出费用的 30%、年度总额最高 200 万元的补贴。 
2.给予复用、共享我市第三方集成电路设计平台的 IP 设计工 具软件或者测试分析系统实际投入的 50%、年度总额最高 100 万 元的补贴。 
（三）集成电路公共服务平台建设资助和运营奖励
 1.对新建的集成电路公共服务平台，一次性给予平台实际建 设投入自有资金部分 30%的资助，最高资助总额不超过 1000 万 元。
 2.对投入运营的集成电路公共服务平台，按年度市内中小企 业服务合同实际完成额的 30%给予奖励，单个平台每年最高不超 过 500 万元。
 （四）销售自主研发设计的芯片及相关产品奖励
 1.对于企业销售自主研发设计的芯片，且单款芯片年度销售 金额累计超过 500 万元的，按照年度销售金额 10%给予一次性奖 励，单款芯片年度奖励最高不超过 500 万元。单个企业在政策有 效期内奖励总额最高不超过 1000 万元。
 2.企业销售自主研发生产的集成电路关键核心设备或材料， 且单款设备或材料年度销售金额累计超过 300 万元的，按照年度 销售金额 30%给予一次性奖励，单款设备或材料年度奖励最高不 超过 500 万元。单个企业在政策有效期内奖励总额最高不超过 1000 万元。
 3.企业销售自主研发 EDA 软件，按照单款 EDA 软件年度销 售金额 50%给予一次性奖励，单款 EDA 软件年度奖励最高不超 过 500 万元。单个企业在政策有效期内奖励总额最高不超过 1000 万元。
 （五）企业贷款贴息
 按企业年度实际支付银行贷款利息金额的50%给予贷款贴息， 单个企业每年贴息金额最高不超过 1000 万元。
四、申报条件
 （一）流片补贴 
1.企业年度进行全掩膜（Full Mask）或多项目晶圆（MPW） 首轮流片的。
2.经过 Full Mask 流片，达到设计要求后，可以提供给集成电 路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的芯片产品，产品 须获得集成电路布图设计登记证书。
 3.“首轮流片”是指集成电路设计企业为某款芯片进行的第 一次流片。
 4.流片费具体包括：掩膜版制作费、用于首轮流